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先端/注目半導体関連市場の現状と将来展望 2020

富士キメラ総研/2020.7

当館請求記号:DL475-M142

分類:市場動向


目次


目次

  • 1.0
    総括・分析
    1
    • 1.1
      総括
      3
    • 1.2
      カテゴリー別市場規模推移・予測
      5
    • 1.3
      半導体前工程・後工程の流れ
      8
    • 1.4
      半導体業界を取り巻く2020年問題(COVID-19・貿易摩擦の影響)
      11
    • 1.5
      AIチップの概要および米中開発メーカー動向
      13
    • 1.6
      中国における半導体政策および内製化動向
      17
    • 1.7
      5G通信によって立ち上がる注目半導体
      21
    • 1.8
      自動車用デバイスの開発動向
      22
    • 1.9
      シリコンウェハの需給予測
      24
    • 1.10
      CPU・GPUの微細化と主要メーカーの動向
      27
    • 1.11
      メモリーの生産技術動向
      33
    • 1.12
      デバイス別採用パッケージの動向
      36
    • 1.13
      次世代パッケージの採用動向と将来展望
      37
  • 2.0
    アプリケーション
    43
    • 2.1
      サーバー
      45
    • 2.2
      基地局
      49
    • 2.3
      スマートフォン
      54
    • 2.4
      自動車
      58
    • 2.5
      LTE・5G通信モジュール
      62
  • 3.0
    半導体デバイス
    67
    • 3.1
      ロジック
      69
      • 3.1.1
        CPU
        69
      • 3.1.2
        GPU
        74
      • 3.1.3
        FPGA
        79
      • 3.1.4
        モバイル機器用AP
        84
      • 3.1.5
        自動車用SoC・FPGA
        89
      • 3.1.6
        イーサネットスイッチチップ
        93
    • 3.2
      メモリー
      98
      • 3.2.1
        NAND
        98
      • 3.2.2
        DRAM
        103
      • 3.2.3
        MRAM
        108
    • 3.3
      RF
      112
      • 3.3.1
        Wi-Fiチップ
        112
      • 3.3.2
        ミリ波チップ
        117
      • 3.3.3
        GaN RFデバイス
        122
    • 3.4
      センサー・ディスクリート
      127
      • 3.4.1
        イメージセンサー
        127
      • 3.4.2
        TOFセンサー
        132
      • 3.4.3
        IGBTモジュール
        137
      • 3.4.4
        SiCデバイス
        140
  • 4.0
    パッケージ
    145
    • 4.1
      FCパッケージ
      147
    • 4.2
      FI-WLP・FO-WLP・PLP
      150
    • 4.3
      2.5D・2.1Dパッケージ
      154
    • 4.4
      AiP
      157
  • 5.0
    半導体関連材料
    161
    • 5.1
      ウェハ・基材
      163
      • 5.1.1
        シリコンウェハ
        163
      • 5.1.2
        GaNエピウェハ
        169
      • 5.1.3
        SiCエピウェハ
        175
    • 5.2
      前工程材料
      179
      • 5.2.1
        CMPスラリー
        179
      • 5.2.2
        フォトレジスト
        185
    • 5.3
      後工程材料
      194
      • 5.3.1
        FC-BGA基板
        194
      • 5.3.2
        FC-CSP基板
        198
      • 5.3.3
        セラミック基板
        202
      • 5.3.4
        バッファーコート・再配線材料
        206
      • 5.3.5
        バックグラインドテープ
        211
      • 5.3.6
        ダイシングテープ
        215
  • 6.0
    装置
    219
    • 6.1
      成膜装置
      221
    • 6.2
      露光装置
      224
    • 6.3
      エッチング装置
      228
    • 6.4
      CMP装置
      232
    • 6.5
      ダイシング装置
      236
  • 7.0
    副資材
    241
    • 7.1
      FOSB・FOUP
      243
    • 7.2
      静電チャック
      247
    • 7.3
      プローブカード
      251


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